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英特尔10纳米制程处理器预计6月上市
2019-05-28 10:20浏览量:返回上一页
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在台积电及三星电子陆续宣布支援极紫外光(EUV)技术的7纳米技术进入量产阶段后,半导体龙头英特尔也确定开始进入10纳米时代,近日宣布预计采用10纳米产品将在6月开始出货。同时,英特尔将加速支援EUV技术的7纳米制程研发,预期2021年可望进入量产阶段,首款代表性产品将是Xe架构绘图芯片。

若以制程推进来看,自2014年采用14纳米量产以来,虽然推出加强版的14+/14++纳米技术,但长达5年时间停留在14纳米世代,制程停滞太久时间。

根据英特尔的技术蓝图,10纳米处理器将在6月开始出货,首发产品线应是应用在终端个人计算机市场的Ice Lake处理器及Lakefield系统单晶片。英特尔2020年及2021年将陆续推出优化后的10+及10++纳米制程,明年之后会再推出采用10+/10++纳米的tiger Lake处理器或Sapphire RaPIds处理器。10纳米的主力量产时程预期介于2019~2021年。

至于7纳米部份,英特尔已加快研发速度,预计2021年将开始量产支援EUV微影技术的7纳米制程,2022至2023年再逐年推出优化的7+及7++纳米。以英特尔7纳米推出及量产时间来看,首发产品线之一将是英特尔回归绘图处理器(gpu)市场的代表作,亦即Xe架构绘图芯片。

英特尔以其芯片密度及线宽线距来定义制程,并说明今年量产的英特尔10纳米制程约与台积电7纳米制程相当,2021年将量产的英特尔7纳米制程则与台积电的5纳米制程相当。但以市场技术及摩尔定律推进的角度来看,台积电去年已量产7纳米,明年可望开始量产5纳米,等于在先进制程竞赛中已经迎头赶上英特尔脚步。

10纳米制程技术

10纳米产品技术密度对比.jpg

据介绍,英特尔首款量产10纳米处理器——代号为“Ice Lake”的移动PC平台,定于今年6月开始出货。Ice Lake平台将充分利用10纳米技术和架构创新,预计带来约3倍无线速度提升,2倍视频转码速度提升,2倍图形性能提升,2.5至3倍人工智能性能提升1。正如之前宣布的,基于Ice lake处理器的英特尔OEM合作伙伴设备产品将于2019年假日季(感恩节至元旦期间)上市。

英特尔还计划在2019至2020年期间推出多个10纳米产品,包括更多用于客户端和服务器的cpu、英特尔®Agilex™系列fpga、英特尔®Nervana™ NNP-I(人工智能推理处理器)、通用gpu和代号为“Snow Ridge” 的5G就绪的网络系统芯片(SOC)。

7纳米进展

任沐新首次介绍了英特尔7纳米制程技术的最新信息,它将实现2倍微缩,预计提升每瓦性能约20%,并将设计规则复杂性降低4倍。这标志着该公司将首次商业化使用极紫外光刻技术(EUV),该技术将有助于推动多代节点的微缩。

首款7纳米产品预计将是基于英特尔Xe架构的通用GPU,用于数据中心人工智能和高性能计算。它将利用先进封装技术实现异构。在2020年推出首款独立显卡之后,英特尔预计将在2021年推出7纳米通用显卡。

值得一提的是,第一款采用7nm工艺的产品并不是CPU,而是Xe架构的GP-GPU,该产品也会使用Foveros 3D工艺和EMIB多芯片互联技术,后者说明它并不是单芯片设计。虽然说2021年会有7nm,但是大规模生产还得等到2022年,而且10nm工艺也会伴随7nm工艺很长一段时间。


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